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真空爐的真空度要求應(yīng)該在10^-5至10^-6的范圍內(nèi)，即每立方厘米的氣體分子數(shù)在這個(gè)范圍內(nèi)

真空爐的真空度對(duì)資料的制備質(zhì)量有著非常重要的影響。

真空爐是一種可以在高溫下制備資料的設(shè)備，一般需要在載體（如石英管）內(nèi)部抽出氣體，以創(chuàng)造一個(gè)低壓環(huán)境。在真空爐中，真空度是一個(gè)非常要害的指標(biāo)。

真空爐石墨件在真空爐中的工作環(huán)境是極點(diǎn)且雜亂的

包裝：運(yùn)用具有杰出防潮、防塵功用的包裝資料對(duì)真空爐石墨件進(jìn)行包裝。

真空爐石墨件在此環(huán)境下工作，需求具有出色的密封功能，以避免氣體泄露和外界雜質(zhì)進(jìn)入。

真空爐石墨件需要在高溫環(huán)境下作業(yè)，一般溫度可到達(dá)數(shù)千攝氏度。石墨因其高熔點(diǎn)和良好的高溫穩(wěn)定性，能夠在此類極點(diǎn)溫度下保持結(jié)構(gòu)和功能的穩(wěn)定性。